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磁控濺射鍍膜機Sputter

簡要描述：v應用領域：巨磁電阻（GMR）、組合材料科學（CMS）、半導體、超導體、納米級器件、光子學、光伏（PV）、OLED（發(fā)光二極管）、有機薄膜v樣品尺寸：8英寸v濺射源：強磁靶、永磁靶

基礎信息

產(chǎn)品型號

廠商性質(zhì)

代理商

更新時間

2024-10-22

瀏覽次數(shù)

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詳細介紹

v 應用領域：巨磁電阻（GMR）、組合材料科學（CMS）、半導體、超導體、納米級器件、光子學、光伏（PV）、OLED（發(fā)光二極管）、有機薄膜

v 樣品尺寸：8英寸

v 濺射源：強磁靶、永磁靶，數(shù)量根據(jù)用戶定制

v 電源：直流電源、射頻電壓

v 真空系統(tǒng)：超高真空

v 樣品臺加熱：至1100℃

v 控制系統(tǒng)：全自動控制

v 進樣室：根據(jù)用戶需求定制


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